1. 等离子体仿真技术解决方案
    等离子体数值模拟是研究等离子体演化问题的重要手段。一类是基于等离子体的流体模型,通过等离子体的密度,流速,温度等局部平均量的演化方程进行的数值研究。另一类是基于动理学模型,即直接在相空间中研究等离子体分布函数的演化,其中等离子体的Particle-In-Cell(PIC)模拟是较为成熟的手段之一。
    锦科科技可以提供基于电磁流体和基于电磁粒子(PIC)算法的物理模型建模、分析和优化。并提供对相关工艺、器件、产品、设备的仿真优化服务。

 

主要领域包括:

    1.1 激光与等离子体相互作用
    1.2 微波源与微波器件研究
    1.3 高电压击穿与脉冲功率设备
    1.4 粒子加速器研究与设计
    1.5 放电等离子体与材料处理
    1.6 航天与空间等离子体研究
    1.7 高能密度物理
    1.8 天体物理和地球物理
    1.9 高超声速飞行器研究
    1.10 热等离子体和电气工程
    1.11 真空设备与稀薄气体模拟
    1.12 等离子体设备模拟
    1.13 刻蚀沉积特征轮廓模拟

 

1.1:激光与等离子体相互作用
    超快超强激光与等离子体之间相互作用;
    激光和固体靶的相互作用;
    激光等离子体加速带电粒子等过程。


 

1.2:微波源与微波器件研究
    电子束和微波相互作用的仿真;
    真空微波源和放大设备仿真研究和优化;
    各类电真空器件的仿真设计。


 

1.3:高电压击穿与脉冲功率设备
    高电压强电场下电子束发射和传播;
    脉冲高压和脉冲功率设备的研究;
    高电压下真空/充气设备的火花、闪络、击穿等过程。


 

1.4:粒子加速器
    粒子束-腔体-电磁场模拟


 

1.5:放电等离子体与材料处理
    磁控溅射/空心阴极/表面放电/介质阻挡放电;
    电子束与离子束的产生与输运;
    基于等离子体的离子注入;
    等离子体表面改性;
    微放电/微等离子体。


 

1.6:航天与空间等离子体研究
    各种卫星用等离子体推进器的设计,如离子推进器、霍尔推进器等;
    空间带电粒子和航天器相互作用,如卫星在空间中积累电荷分析等问题。


 

1.7:高能密度物理
    各种受控聚变问题中研究等离子体的形成和演化,如托卡马克,惯性约束和磁化惯性约束,磁化靶聚变,等离子体焦点等。


 

1.8:天体物理和地球物理
    大尺度等离子体的流动和电磁过程;
    空间等离子体和电离层的行为;
    磁重联。


 

1.9:高超声速飞行器研究
    高超声速气体流动仿真,包含化学反应和等离子体形成;
    高超声速飞行器设计;
    高层大气中的飞行器再入过程、黑障研究等。


 

1.10:热等离子体和电气工程
    等离子体流动,气体运动,化学反应,等离子体形成;
    电弧,等离子体炬,等离子体风洞等设备仿真。


 

1.11:真空设备与稀薄气体模拟
    多种真空设备中的稀薄气体动理学和粘性流模拟;
    真空蒸镀设备中的气体流动和薄膜厚度演化模拟;
    稀薄气体中的纳米粒子;
    微尺度下的原子与分子行为。


 

1.12:等离子体设备模拟
    等离子体刻蚀设备与等离子体增强化学气相沉积设备中等离子体特性;
    ICP (金属/多晶硅/MEMS刻蚀、介质膜沉积);
    CCP (氧化物刻蚀/太阳能电池或微电子薄膜);
    磁控溅射设备中等离子体和溅射粒子特性。


 

1.13:刻蚀沉积特征轮廓模拟
    物理气相沉积;
    化学气相沉积;
    等离子体干法刻蚀。